د سي سي ویفر لنډیز
د سیلیکون کاربایډ (SiC) ویفرونه د موټرو، نوي کیدونکي انرژۍ، او فضايي سکتورونو کې د لوړ ځواک، لوړ فریکونسۍ، او لوړ تودوخې الکترونیکي توکو لپاره د انتخاب سبسټریټ ګرځیدلی دی. زموږ پورټ فولیو کلیدي پولیټایپونه او ډوپینګ سکیمونه پوښي — نایتروجن-ډوپډ 4H (4H-N)، لوړ پاکوالي نیمه انسولیټینګ (HPSI)، نایتروجن-ډوپډ 3C (3C-N)، او p-ډول 4H/6H (4H/6H-P) — چې په دریو کیفیت درجو کې وړاندې کیږي: PRIME (په بشپړ ډول پالش شوی، د وسیلې درجې سبسټریټ)، DUMMY (د پروسې آزموینو لپاره لیپ شوی یا غیر پالش شوی)، او RESEARCH (د R&D لپاره دودیز ایپي پرتونه او ډوپینګ پروفایلونه). د ویفر قطرونه 2″، 4″، 6″، 8″، او 12″ پراخ دي ترڅو د میراثي وسیلو او پرمختللي فابونو سره سم وي. موږ د کور دننه کرسټال ودې ملاتړ لپاره مونوکریسټالین بولونه او په دقیق ډول متمرکز تخم کرسټالونه هم چمتو کوو.
زموږ 4H-N ویفرونه د 1×10¹⁶ څخه تر 1×10¹⁹ cm⁻³ پورې د کیریر کثافت او د 0.01–10 Ω·cm مقاومت لري، چې د 2 MV/cm څخه پورته د الکترون حرکت او ماتیدو ساحې وړاندې کوي — د Schottky ډایډونو، MOSFETs، او JFETs لپاره مثالی. د HPSI سبسټریټونه د 0.1 cm⁻² څخه ښکته د مایکروپایپ کثافت سره د 1×10¹² Ω·cm مقاومت څخه ډیر دي، د RF او مایکروویو وسیلو لپاره لږترلږه لیک ډاډمن کوي. کیوبیک 3C-N، چې په 2″ او 4″ بڼو کې شتون لري، په سیلیکون کې هیټروپیټیکسي فعالوي او د نوي فوټونیک او MEMS غوښتنلیکونو ملاتړ کوي. د P-ډول 4H/6H-P ویفرونه، د المونیم سره 1×10¹⁶–5×10¹⁸ cm⁻³ ته ډوپ شوي، د تکمیلي وسیلو جوړښتونه اسانه کوي.
د PRIME ویفرونه د کیمیاوي – میخانیکي پالش کولو څخه تر <0.2 nm RMS سطحې ناهموارۍ، د 3 µm څخه کم ټول ضخامت توپیر، او د کمان <10 µm څخه تیریږي. DUMMY سبسټریټونه د اسمبلۍ او بسته بندۍ ازموینې ګړندي کوي، پداسې حال کې چې د څیړنې ویفرونه د 2–30 µm د ایپي پرت ضخامت او د بېسپوک ډوپینګ ځانګړتیا لري. ټول محصولات د ایکس رې تفاوت (راکینګ منحنی <30 آرک سیک) او رامان سپیکٹروسکوپي لخوا تصدیق شوي، د بریښنایی ازموینو سره — د هال اندازه کول، د C–V پروفایل کول، او مایکروپایپ سکین کول — د JEDEC او SEMI اطاعت ډاډمن کوي.
تر ۱۵۰ ملي میتره پورې قطر لرونکي بالونه د PVT او CVD له لارې کرل کیږي چې د بې ځایه کیدو کثافت یې له ۱×۱۰³ سانتي متره څخه کم وي او د مایکرو پایپ شمیر یې ټیټ وي. د تخم کرسټالونه د c-محور په ۰.۱ درجو کې پرې کیږي ترڅو د تکثیر وړ ودې او لوړ ټوټې کولو حاصلات تضمین کړي.
د څو پولی ټایپونو، ډوپینګ ډولونو، کیفیت درجې، ویفر اندازې، او په کور کې د بول او تخم کرسټال تولید سره یوځای کولو سره، زموږ د SiC سبسټریټ پلیټ فارم د اکمالاتو زنځیرونه ساده کوي او د بریښنایی موټرو، سمارټ گرډونو، او سخت چاپیریال غوښتنلیکونو لپاره د وسیلو پراختیا ګړندۍ کوي.
د سي سي ویفر لنډیز
د سیلیکون کاربایډ (SiC) ویفرونه د موټرو، نوي کیدونکي انرژۍ، او فضايي سکتورونو کې د لوړ ځواک، لوړ فریکونسۍ، او لوړ تودوخې الکترونیکي توکو لپاره د انتخاب سبسټریټ ګرځیدلی دی. زموږ پورټ فولیو کلیدي پولیټایپونه او ډوپینګ سکیمونه پوښي — نایتروجن-ډوپډ 4H (4H-N)، لوړ پاکوالي نیمه انسولیټینګ (HPSI)، نایتروجن-ډوپډ 3C (3C-N)، او p-ډول 4H/6H (4H/6H-P) — چې په دریو کیفیت درجو کې وړاندې کیږي: PRIME (په بشپړ ډول پالش شوی، د وسیلې درجې سبسټریټ)، DUMMY (د پروسې آزموینو لپاره لیپ شوی یا غیر پالش شوی)، او RESEARCH (د R&D لپاره دودیز ایپي پرتونه او ډوپینګ پروفایلونه). د ویفر قطرونه 2″، 4″، 6″، 8″، او 12″ پراخ دي ترڅو د میراثي وسیلو او پرمختللي فابونو سره سم وي. موږ د کور دننه کرسټال ودې ملاتړ لپاره مونوکریسټالین بولونه او په دقیق ډول متمرکز تخم کرسټالونه هم چمتو کوو.
زموږ 4H-N ویفرونه د 1×10¹⁶ څخه تر 1×10¹⁹ cm⁻³ پورې د کیریر کثافت او د 0.01–10 Ω·cm مقاومت لري، چې د 2 MV/cm څخه پورته د الکترون حرکت او ماتیدو ساحې وړاندې کوي — د Schottky ډایډونو، MOSFETs، او JFETs لپاره مثالی. د HPSI سبسټریټونه د 0.1 cm⁻² څخه ښکته د مایکروپایپ کثافت سره د 1×10¹² Ω·cm مقاومت څخه ډیر دي، د RF او مایکروویو وسیلو لپاره لږترلږه لیک ډاډمن کوي. کیوبیک 3C-N، چې په 2″ او 4″ بڼو کې شتون لري، په سیلیکون کې هیټروپیټیکسي فعالوي او د نوي فوټونیک او MEMS غوښتنلیکونو ملاتړ کوي. د P-ډول 4H/6H-P ویفرونه، د المونیم سره 1×10¹⁶–5×10¹⁸ cm⁻³ ته ډوپ شوي، د تکمیلي وسیلو جوړښتونه اسانه کوي.
د PRIME ویفرونه د کیمیاوي – میخانیکي پالش کولو څخه تر <0.2 nm RMS سطحې ناهموارۍ، د 3 µm څخه کم ټول ضخامت توپیر، او د کمان <10 µm څخه تیریږي. DUMMY سبسټریټونه د اسمبلۍ او بسته بندۍ ازموینې ګړندي کوي، پداسې حال کې چې د څیړنې ویفرونه د 2–30 µm د ایپي پرت ضخامت او د بېسپوک ډوپینګ ځانګړتیا لري. ټول محصولات د ایکس رې تفاوت (راکینګ منحنی <30 آرک سیک) او رامان سپیکٹروسکوپي لخوا تصدیق شوي، د بریښنایی ازموینو سره — د هال اندازه کول، د C–V پروفایل کول، او مایکروپایپ سکین کول — د JEDEC او SEMI اطاعت ډاډمن کوي.
تر ۱۵۰ ملي میتره پورې قطر لرونکي بالونه د PVT او CVD له لارې کرل کیږي چې د بې ځایه کیدو کثافت یې له ۱×۱۰³ سانتي متره څخه کم وي او د مایکرو پایپ شمیر یې ټیټ وي. د تخم کرسټالونه د c-محور په ۰.۱ درجو کې پرې کیږي ترڅو د تکثیر وړ ودې او لوړ ټوټې کولو حاصلات تضمین کړي.
د څو پولی ټایپونو، ډوپینګ ډولونو، کیفیت درجې، ویفر اندازې، او په کور کې د بول او تخم کرسټال تولید سره یوځای کولو سره، زموږ د SiC سبسټریټ پلیټ فارم د اکمالاتو زنځیرونه ساده کوي او د بریښنایی موټرو، سمارټ گرډونو، او سخت چاپیریال غوښتنلیکونو لپاره د وسیلو پراختیا ګړندۍ کوي.
د سي سي ویفر انځور




د 6 انچه 4H-N ډوله SiC ویفر ډیټا شیټ
د 6 انچه SiC ویفرز ډیټا شیټ | ||||
پیرامیټر | فرعي پیرامیټر | د Z درجه | د P درجه | د D درجه |
قطر | ۱۴۹.۵–۱۵۰.۰ ملي متره | ۱۴۹.۵–۱۵۰.۰ ملي متره | ۱۴۹.۵–۱۵۰.۰ ملي متره | |
ضخامت | ۴ ساعته | ۳۵۰ µm ± ۱۵ µm | ۳۵۰ µm ± ۲۵ µm | ۳۵۰ µm ± ۲۵ µm |
ضخامت | ۴H‑SI | ۵۰۰ µm ± ۱۵ µm | ۵۰۰ µm ± ۲۵ µm | ۵۰۰ µm ± ۲۵ µm |
د ویفر سمت | له محور څخه بهر: ۴.۰° د <۱۱-۲۰> په لور ±۰.۵° (۴H-N)؛ په محور کې: <۰۰۰۱> ±۰.۵° (۴H-SI) | له محور څخه بهر: ۴.۰° د <۱۱-۲۰> په لور ±۰.۵° (۴H-N)؛ په محور کې: <۰۰۰۱> ±۰.۵° (۴H-SI) | له محور څخه بهر: ۴.۰° د <۱۱-۲۰> په لور ±۰.۵° (۴H-N)؛ په محور کې: <۰۰۰۱> ±۰.۵° (۴H-SI) | |
د مایکرو پایپ کثافت | ۴ ساعته | ≤ 0.2 سانتي متره⁻² | ≤ ۲ سانتي متره⁻² | ≤ ۱۵ سانتي متره⁻² |
د مایکرو پایپ کثافت | ۴H‑SI | ≤ ۱ سانتي متره⁻² | ≤ ۵ سانتي متره⁻² | ≤ ۱۵ سانتي متره⁻² |
مقاومت | ۴ ساعته | ۰.۰۱۵–۰.۰۲۴ Ω·سانتي متره | ۰.۰۱۵–۰.۰۲۸ Ω·سانتي متره | ۰.۰۱۵–۰.۰۲۸ Ω·سانتي متره |
مقاومت | ۴H‑SI | ≥ ۱×۱۰¹⁰ Ω·سانتي متره | ≥ ۱×۱۰⁵ Ω·سانتي متره | |
لومړني فلیټ سمت | [۱۰-۱۰] ± ۵.۰ درجې | [۱۰-۱۰] ± ۵.۰ درجې | [۱۰-۱۰] ± ۵.۰ درجې | |
د لومړني فلیټ اوږدوالی | ۴ ساعته | ۴۷.۵ ملي متره ± ۲.۰ ملي متره | ||
د لومړني فلیټ اوږدوالی | ۴H‑SI | نوچ | ||
د څنډې استثنا | ۳ ملي متره | |||
وارپ/LTV/TTV/بو | ≤2.5 µm / ≤6 µm / ≤25 µm / ≤35 µm | ≤5 µm/≤15µm/≤40µm/≤60µm | ||
ناهمواروالی | پولیش | را ≤ ۱ نانومیټر | ||
ناهمواروالی | سي ایم پي | را ≤ 0.2 نانومیټره | را ≤ 0.5 نانومیټره | |
د څنډو درزونه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤ 20 ملي متره، واحد ≤ 2 ملي متره | ||
هیکس پلیټونه | مجموعي ساحه ≤ 0.05% | مجموعي ساحه ≤ 0.1% | مجموعي ساحه ≤ ۱٪ | |
د پولی ټایپ سیمې | هیڅ نه | مجموعي ساحه ≤ 3% | مجموعي ساحه ≤ 3% | |
د کاربن شاملول | مجموعي ساحه ≤ 0.05% | مجموعي ساحه ≤ 3% | ||
د سطحې سکریچونه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤ 1 × د ویفر قطر | ||
د څنډې چپس | د 0.2 ملي میتر پلنوالي او ژوروالي څخه کم اجازه نشته | تر ۷ چپسونو پورې، هر یو یې ≤ ۱ ملي میتره | ||
TSD (د تارینګ سکرو بې ځایه کیدل) | ≤ ۵۰۰ سانتي متره⁻² | نه | ||
BPD (د الوتکې بې ځایه کیدل) | ≤ ۱۰۰۰ سانتي متره⁻² | نه | ||
د سطحې ککړتیا | هیڅ نه | |||
بسته بندي | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر |
د ۴ انچه ۴H-N ډوله SiC ویفر ډیټا شیټ
د ۴ انچه SiC ویفر ډیټا شیټ | |||
پیرامیټر | د MPD تولید صفر دی | د تولید معیاري درجه (P درجه) | د ډمي درجه (D درجه) |
قطر | ۹۹.۵ ملي متره–۱۰۰.۰ ملي متره | ||
ضخامت (۴H-N) | ۳۵۰ µm±۱۵ µm | ۳۵۰ µm±۲۵ µm | |
ضخامت (۴H-Si) | ۵۰۰ µm±۱۵ µm | ۵۰۰ µm±۲۵ µm | |
د ویفر سمت | له محور څخه بهر: ۴.۰° د <۱۱۲۰> په لور ±۰.۵° د ۴H-N لپاره؛ پر محور: <۰۰۰۱> ±۰.۵° د ۴H-Si لپاره | ||
د مایکرو پایپ کثافت (4H-N) | ≤0.2 سانتي متره⁻² | ≤2 سانتي متره⁻² | ≤۱۵ سانتي متره⁻² |
د مایکرو پایپ کثافت (4H-Si) | ≤1 سانتي متره⁻² | ≤۵ سانتي متره⁻² | ≤۱۵ سانتي متره⁻² |
مقاومت (۴H-N) | ۰.۰۱۵–۰.۰۲۴ Ω·سانتي متره | ۰.۰۱۵–۰.۰۲۸ Ω·سانتي متره | |
مقاومت (4H-Si) | ≥۱E۱۰ Ω·سانتي متره | ≥۱E۵ Ω·سانتي متره | |
لومړني فلیټ سمت | [۱۰-۱۰] ±۵.۰° | ||
د لومړني فلیټ اوږدوالی | ۳۲.۵ ملي متره ±۲.۰ ملي متره | ||
د ثانوي فلیټ اوږدوالی | ۱۸.۰ ملي متره ±۲.۰ ملي متره | ||
ثانوي فلیټ سمت | سیلیکون مخامخ: ۹۰ درجې CW له اصلي فلیټ څخه ±۵.۰ درجې | ||
د څنډې استثنا | ۳ ملي متره | ||
LTV/TTV/د کمان تاوول | ≤2.5 µm/≤5 µm/≤15µm/≤30µm | ≤10 µm/≤15µm/≤25µm/≤40µm | |
ناهمواروالی | پولنډي Ra ≤1 nm؛ CMP Ra ≤0.2 nm | را ≤0.5 نانومیټر | |
د لوړ شدت رڼا له امله د څنډو درزونه | هیڅ نه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤10 ملي متره؛ واحد اوږدوالی ≤2 ملي متره |
د لوړ شدت رڼا په واسطه هیکس پلیټونه | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤0.1% |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د پولی ټایپ سیمې | هیڅ نه | مجموعي ساحه ≤3% | |
بصری کاربن شاملول | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤3% | |
د لوړ شدت رڼا له امله د سیلیکون سطحې سکریچونه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤1 د ویفر قطر | |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د څنډې چپس | د ≥0.2 ملي میتر پلنوالی او ژوروالی اجازه نلري | ۵ اجازه ورکړل شوې، هر یو یې ≤۱ ملي متره | |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د سیلیکون سطحې ککړتیا | هیڅ نه | ||
د تارینګ سکرو بې ځایه کیدل | ≤۵۰۰ سانتي متره⁻² | نه | |
بسته بندي | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر |
د 4 انچه HPSI ډوله SiC ویفر ډیټا شیټ
د 4 انچه HPSI ډوله SiC ویفر ډیټا شیټ | |||
پیرامیټر | د صفر MPD تولید درجه (Z درجه) | د تولید معیاري درجه (P درجه) | د ډمي درجه (D درجه) |
قطر | ۹۹.۵–۱۰۰.۰ ملي متره | ||
ضخامت (۴H-Si) | ۵۰۰ µm ± ۲۰ µm | ۵۰۰ µm ± ۲۵ µm | |
د ویفر سمت | له محور څخه بهر: ۴.۰° د <۱۱-۲۰> په لور ±۰.۵° د ۴H-N لپاره؛ په محور کې: <۰۰۰۱> ±۰.۵° د ۴H-Si لپاره | ||
د مایکرو پایپ کثافت (4H-Si) | ≤1 سانتي متره⁻² | ≤۵ سانتي متره⁻² | ≤۱۵ سانتي متره⁻² |
مقاومت (4H-Si) | ≥۱E۹ Ω·سانتي متره | ≥۱E۵ Ω·سانتي متره | |
لومړني فلیټ سمت | (۱۰-۱۰) ±۵.۰° | ||
د لومړني فلیټ اوږدوالی | ۳۲.۵ ملي متره ±۲.۰ ملي متره | ||
د ثانوي فلیټ اوږدوالی | ۱۸.۰ ملي متره ±۲.۰ ملي متره | ||
ثانوي فلیټ سمت | سیلیکون مخامخ: ۹۰ درجې CW له اصلي فلیټ څخه ±۵.۰ درجې | ||
د څنډې استثنا | ۳ ملي متره | ||
LTV/TTV/د کمان تاوول | ≤3 µm/≤5 µm/≤15µm/≤30µm | ≤10 µm/≤15µm/≤25µm/≤40µm | |
ناهمواروالی (C مخ) | پولیش | را ≤1 نانومیټر | |
ناهمواروالی (سی مخ) | سي ایم پي | را ≤0.2 نانومیټر | را ≤0.5 نانومیټر |
د لوړ شدت رڼا له امله د څنډو درزونه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤10 ملي متره؛ واحد اوږدوالی ≤2 ملي متره | |
د لوړ شدت رڼا په واسطه هیکس پلیټونه | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤0.1% |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د پولی ټایپ سیمې | هیڅ نه | مجموعي ساحه ≤3% | |
بصری کاربن شاملول | مجموعي ساحه ≤0.05% | مجموعي ساحه ≤3% | |
د لوړ شدت رڼا له امله د سیلیکون سطحې سکریچونه | هیڅ نه | مجموعي اوږدوالی ≤1 د ویفر قطر | |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د څنډې چپس | د ≥0.2 ملي میتر پلنوالی او ژوروالی اجازه نلري | ۵ اجازه ورکړل شوې، هر یو یې ≤۱ ملي متره | |
د لوړ شدت رڼا په واسطه د سیلیکون سطحې ککړتیا | هیڅ نه | هیڅ نه | |
د تار کولو سکرو بې ځایه کیدل | ≤۵۰۰ سانتي متره⁻² | نه | |
بسته بندي | څو-ویفر کیسیټ یا واحد ویفر کانټینر |
د پوسټ وخت: جون-۳۰-۲۰۲۵